研磨液的化学实验

广泛适用于电子设备、电子原件、精密机械、仪器、仪表、光学元件、医疗器械、金属表面抛光等领域，适用于各类金属（铜、铝、镍、铬、不锈钢、铁等）及非金属（陶瓷、半导体、磁头、硅晶片、多晶硅、单晶硅各种铁氧体、微晶玻璃、碤、硅片、碳化硅等）表面进行高精度、超镜面抛光。

一、优点：

适用范围广泛，抛光后亮度为超镜面效果，工件出光速度快，操作过程中无气味，适用于清洁生产。抛光后的工件表面无划痕，达到超镜面效果。

二、指标：

① 白色乳液（或淡黄色乳液），无气味。

② PH值：中性，6~8。

③ 比重：>1.0。

三、使用方法：

① 将加入10倍清水（纯净水更佳）并摇均匀，在抛光机中均匀滴加进行抛光。

② 抛光条件：盘速60n~100n/min，压强20KG/d㎡~40KG/d㎡，抛光头速度50n/min，抛光剂稀释液流量50~100ml/min.

③ 抛光时间为25min~45min.

四、注意事项：

① 不能与其它混合使用，使用本剂前应将抛光盘进行清洗。

② 抛光剂使用过程中要摇均匀。

③ 抛光完毕时要立即用清水冲洗抛光工件。

④ 抛光工件前要对工件进行粗磨，达到一定平整度后才能使用本剂，以节省时间及提效。

⑤ 桶内的药水若有沉淀，请搅拌均匀后再使用，不影响使用效果。