研磨液上游主要为其主要成分为，有增稠剂、分散剂、pH 调节剂、表面活性剂与螯合剂等。中游主要为研磨液产品的生产制备，随着国内企业持续布局，国产品牌占比持续提升，研磨液下游主要应用于半导体硅片制造领域，半导体硅片行业是我国鼓励发展的产业，是支撑经济社会发展和保国家的战略性和基础性产业，国家政策持续出台相关政策推动整体半导体行业发展扩张，进而带动研磨液需求持续增长。

研磨液作为半导体材料的重要组成部分之一，下游消费电子等领域应用持续增长的需求，为行业带来了广阔的发展空间，数据显示2022年国内抛光材料规模为46.92亿元，研磨液占我国抛光材料占比超5成